企业简介
弘塑科技股份有限公司 main business:Medical care and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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弘塑科技股份有限公司的商标信息
| 序号 | 注册号 | 商标 | 商标名 | 申请时间 | 商品服务列表 | 内容 |
| 1 | 11406459 |  |
弘塑科技 | 2012-08-27 | 化学工业用电动机械；电子工业设备；玻璃加工机；玻璃工业用机器设备(包括日用玻璃机械)；清洗设备；过滤机；电镀机；金属加工机械；雕刻机；硫酸设备 | 查看详情 |
| 2 | 11405931 |  |
GRAND PLASTIC TECHNOLOGY | 2012-08-27 | 化学工业用电动机械;电子工业设备;玻璃加工机;玻璃工业用机器设备(包括日用玻璃机械);清洗设备;过滤机;电镀机;金属加工机械;硫酸设备;雕刻机; | 查看详情 |
| 3 | 11399410 |  |
GPT | 2012-08-24 | 化学工业用电动机械；电子工业设备；玻璃加工机；玻璃工业用机器设备(包括日用玻璃机械)；清洗设备；过滤机；金属加工机械；电镀机；雕刻机；硫酸设备 | 查看详情 |
弘塑科技股份有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | TW200421471 | 碳化矽及低介电常数薄膜之清除方法与装置(追加一) METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING SIC AND LOW K FILM | 2004.10.16 | 本发明揭露一种碳化矽及低介电常数薄膜之清除方法与装置，其中低介电常数薄膜或碳化矽层系形成于一基板上； |
| 2 | TWI534298 | 回流降温酸槽处理系统及酸液回收处理方法 | 2016.05.21 | 回流降温酸槽处理系统，包括一盛装有制程酸液之制程槽及一盛装有缓冲酸液之调和槽，其改良在于，调和槽经由 |
| 3 | CN105984985A | 回流降温酸槽处理系统及酸液回收处理方法 | 2016.10.05 | 一种回流降温酸槽处理系统，包括一盛装有制程酸液的制程槽及一盛装有缓冲酸液的调和槽，其改良在于，调和槽 |
| 4 | TW200421437 | 光阻去除装置及方法 | 2004.10.16 | 本发明揭示一种光阻去除装置及方法，用以去除厚膜光阻。包含：一光阻去除处理槽，用以容纳溶剂及置入整批要 |
| 5 | TW200502715 | 厚膜光阻去除 | 2005.01.16 | 本发明揭示一种厚膜光阻去除之制程方法，用于封装时形成焊锡凸块后剥除厚膜光阻或半导体制程中较厚之光阻之 |
| 6 | TWI236708 | 金属图案撕去设备除去金属碎片之装置及方法 | 2005.07.21 | 本发明揭示一种金属图案撕去(lift-off)设备除去金属碎片之装置，至少包含：一金属图案撕去处理槽 |
| 7 | CN205789887U | 基板压平设备 | 2016.12.07 | 本实用新型提供一种基板压平设备，包含：一基座；一旋转臂，其一端与所述基座可转动地连接；以及一盘型组件 |
| 8 | CN206040607U | 卡匣翻转机构 | 2017.03.22 | 本实用新型提供一种卡匣翻转机构，包含：一固定座；一旋转座，通过一第一旋转单元与所述固定座可旋转地连接 |
| 9 | CN205944046U | 半导体干燥设备 | 2017.02.08 | 本实用新型提供一种半导体干燥设备，包含：一干燥处理槽、一液体暂存槽、以及一循环管路系统，连接在所述干 |
| 10 | CN105895552A | 整合水分去除与干燥的处理设备及半导体晶片的处理方法 | 2016.08.24 | 本发明提供一种整合水分去除与干燥的处理设备及半导体晶片的处理方法，所述整合水分去除与干燥的处理设备包 |
| 11 | CN103357637B | 清洗蚀刻机台移动式泄液槽的排气装置 | 2016.06.22 | 本发明提供一种清洗蚀刻机台移动式泄液槽的排气装置，供清洗蚀刻机台的排气。排气装置与清洗蚀刻机台的转盘 |
| 12 | TWI527143 | 晶片堆叠结构之乾燥方法及其系统 | 2016.03.21 | 明揭示一种晶片堆叠结构之乾燥方法，包括以下之步骤：首先，提供经去离子水清洗后之一晶片堆叠结构；接着， |
| 13 | TWI526305 | 夹层玻璃结构及防眩光玻璃之制造方法 | 2016.03.21 | 明揭示一种防眩光玻璃之制造方法，包括以下步骤：首先，提供一夹层玻璃结构，所述夹层玻璃结构包含一第一玻 |
| 14 | CN205081101U | 旋转蚀刻清洗机台的流体收集装置 | 2016.03.09 | 本实用新型提供的旋转蚀刻清洗机台的流体收集装置，用于收集由一基板表面飞溅的流体，所述流体收集装置包括 |
| 15 | TWM517906 | 省水装置 | 2016.02.21 | 省水装置，适用于一湿制程设备且该湿制程设备包含一承载架，该省水装置包括：一本体，具有一侧壁以及至少一 |
| 16 | CN103420616B | 蚀刻握持夹具 | 2016.02.10 | 一种蚀刻握持夹具，包括两个侧板、多个支持棒、多个夹板、至少两个夹板滑棒及至少一个夹板压棒，所述两个侧 |
| 17 | TWI324675 | 将太阳电池对准聚焦透镜焦点之雷射对焦模组及对焦方法 | 2010.05.11 | 本发明提供一种将太阳电池对准聚焦透镜焦点之雷射对焦模组，利用多数个半导体雷射置于雷射盒中之雷射室中排 |
| 18 | TWM512208 | 整合水分去除与乾燥之处理设备 | 2015.11.11 | |
| 19 | TWI504787 | 高深宽比通孔无电镀铜沉积方法及配方 | 2015.10.21 | |
| 20 | TW200923311 | 具有冷却底座之加热板 | 2009.06.01 | 本发明提供一种具有冷却底座之加热板。利用冷却底座置于加热板之下以冷却加热板，包括一个冷却底座，冷却底 |
| 21 | CN204680648U | 基板清洁装置 | 2015.09.30 | 本实用新型提供的基板清洁装置，包括弹性柱体、无尘布及移动机构。所述弹性柱体是由吸水材质制成，所述弹性 |
| 22 | TWI501309 | 抗金属析出的蚀刻装置 | 2015.09.21 | |
| 23 | TWI492319 | 湿制程设备旋乾机侦测破片之方法及装置 | 2015.07.11 | |
| 24 | TWM504259 | 基板清洁装置 | 2015.07.01 | |
| 25 | CN204424225U | 整合水分去除与干燥的处理设备 | 2015.06.24 | 本实用新型提供一种整合水分去除与干燥的处理设备，包括：一处理室，用以在同一工艺内完成晶片表面的水分去 |
| 26 | CN104628261A | 循环式均匀蚀刻装置 | 2015.05.20 | 本发明公开一种循环式均匀蚀刻装置，包括一槽体、一承载板、多条出酸管、一回酸管及多条气泡管，该槽体内容 |
| 27 | CN104624548A | 晶片堆迭结构的洗净方法及洗净设备 | 2015.05.20 | 本发明揭示一种晶片堆迭结构的洗净方法，其特征在于，先提供一晶片堆迭结构，该晶片堆迭结构具有至少一位于 |
| 28 | CN104465314A | 芯片堆叠结构的干燥方法及其系统 | 2015.03.25 | 本发明公开一种芯片堆叠结构的干燥方法，包括以下步骤：首先，提供经去离子水清洗后的芯片堆叠结构；接着， |
| 29 | TWM497848 | 具有垂直批次浸泡制程之单晶圆湿制程装置 | 2015.03.21 | |
| 30 | TWI478264 | 多功能基板处理设备 | 2015.03.21 | |
| 31 | TW201505824 | 夹层玻璃结构及防眩光玻璃之制造方法;LAMINATED GLASS STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD OF ANTIGLARE GLASS | 2015.02.16 | 本发明揭示一种防眩光玻璃之制造方法，包括以下步骤：首先，提供一夹层玻璃结构，所述夹层玻璃结构包含一第 |
| 32 | CN204155912U | 晶圆通用提篮装置 | 2015.02.11 | 一种晶圆通用提篮装置，包括提篮及载盘。提篮包含两侧板及两支撑架，两侧板各设有夹取部，两支撑架分置于上 |
| 33 | CN104341113A | 夹层玻璃结构及防眩光玻璃的制造方法 | 2015.02.11 | 本发明提供一种防眩光玻璃的制造方法，包括以下步骤：首先，提供一夹层玻璃结构，所述夹层玻璃结构包含一第 |
| 34 | CN204086159U | 破裂检测机构 | 2015.01.07 | 一种破裂检测机构，应用于玻璃及晶圆剥离后破裂状态的检出，该玻璃及该晶圆的间定义为一检测位置，该破裂检 |
| 35 | CN203878063U | 夹层玻璃结构 | 2014.10.15 | 本实用新型提出一种夹层玻璃结构，适于进行一湿蚀刻制程，所述夹层玻璃结构包括一第一玻璃板、一第二玻璃板 |
| 36 | TW201434100 | 多功能基板处理设备;MULTI-FUNCTIONAL SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS | 2014.09.01 | 本发明提出一种多功能基板处理设备,其包括一处理槽体、一操作单元、一喷淋单元及一调整单元。处理槽体的内 |
| 37 | CN203659818U | 洗净设备 | 2014.06.18 | 一种洗净设备，适于去除一晶片堆迭结构上残留的助焊剂，其中该晶片堆迭结构具有至少一位于晶片与基板之间的 |
| 38 | CN203653437U | 循环式均匀蚀刻装置 | 2014.06.18 | 一种循环式均匀蚀刻装置，包括一槽体、一承载板、多条出酸管、一回酸管及多条气泡管，该槽体内容纳有一蚀刻 |
| 39 | CN103663987A | 沉降式反应槽结构 | 2014.03.26 | 本发明提供一种沉降式反应槽结构，包括反应槽、液体喷洒管、管路及泵，液体喷洒管设置于反应槽的上方，管路 |
| 40 | CN103420616A | 蚀刻握持夹具 | 2013.12.04 | 一种蚀刻握持夹具，包括两个侧板、多个支持棒、多个夹板、至少两个夹板滑棒及至少一个夹板压棒，所述两个侧 |
| 41 | CN103357637A | 清洗蚀刻机台移动式泄液槽的排气装置 | 2013.10.23 | 本发明提供一种清洗蚀刻机台移动式泄液槽的排气装置，供清洗蚀刻机台的排气。排气装置与清洗蚀刻机台的转盘 |
| 42 | CN203238173U | 蚀刻握持夹具 | 2013.10.16 | 一种蚀刻握持夹具，包括两个侧板、至少一个支持件、多个夹板、至少两个夹板滑棒以及至少一个夹板压棒，所述 |
| 43 | CN102992636A | 玻璃蚀刻液回收分配装置 | 2013.03.27 | 一种玻璃蚀刻液回收分配装置，包括主管路、马达、传动机构及多个分配槽，所述主管路可转动地设置于机体上， |
| 44 | CN102983061A | 以搅棒扰动载具边缘的湿制程蚀刻装置及方法 | 2013.03.20 | 一种以搅棒扰动载具边缘的湿制程蚀刻装置，包括湿制程蚀刻槽，所述湿制程蚀刻槽内设有蚀刻液及载具，所述载 |
| 45 | CN101958228B | 具有移动式泄液槽的清洗蚀刻机台 | 2012.06.20 | 本发明提供一种具有移动式泄液槽的清洗蚀刻机台。清洗蚀刻机台的转盘保持在固定水平上，而泄液槽(drai |
| 46 | 太阳电池之多层ＰＩＮ接面响应曲线之量测系统及方法 | 2011.05.01 | ||
| 47 | CN101958228A | 具有移动式泄液槽的清洗蚀刻机台 | 2011.01.26 | 本发明提供一种具有移动式泄液槽的清洗蚀刻机台。清洗蚀刻机台的转盘保持在固定水平上，而泄液槽(drai |
| 48 | CN101958229A | 具有气泡阻断环的清洗蚀刻机台 | 2011.01.26 | 本发明提供一种具有气泡阻断环的清洗蚀刻机台，为使转盘能旋转，在转盘与蚀刻机台座之间具有缝隙，蚀刻的化 |
| 49 | TWI317804 | 具有冷却底座之加热板 | 2009.12.01 | 本发明提供一种具有冷却底座之加热板。利用冷却底座置于加热板之下以冷却加热板，包括一个冷却底座，冷却底 |
| 50 | TW200933909 | 太阳电池之叠置封装构造 | 2009.08.01 | 本发明揭示一种太阳电池之叠置封装构造。将不同波长吸收系数之太阳电池晶片以不同角度错开叠置固定封装，使 |
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